棱镜耦合仪SPA-4000利用波导耦合原理，测量薄膜或体材料的折射率，薄膜厚度，热光系数以及波导损耗等，用户可选择632.8nm，830nm，1310nm，1550nm以及其它可见光和近红外光源。
主要功能：
1、薄膜及波导折射率/厚度/波导损耗测量；
2、薄膜及体材料的双折射测量；
3、体材料折射率的测量； 4、液体折射率的测量；
5、折射率随温度变化的测量分析；
6、折射率随深度变化的测量分析； | 主要应用领域：
1、光波导器件芯片的制备；
2、激光晶体的制备；
3、聚合物材料的属性研究；
4、显示技术相关材料的测量；
5、光/磁存储材料的测量；
6、光学薄膜的制备； |
主要测量参数：
| 测量对象 | 测量内容及参数 |
| 折射率 | 折射率测量范围 | 1.0 - 2.45 |
| 折射率精度 | 0.001 |
| 折射率分辨率 | ±0.0005 |
| 厚度 | 厚度测量范围 | 0.4㎛ - 20㎛ |
| 厚度精度 | ±0.5% |
| 厚度分辨率 | ±0.01㎛ |
| 体材料（仅测折射率） | 折射率精度 | 0.0005 |
| 折射率分辨率 | ±0.0001 |
| 厚薄膜 | 厚度测量范围 | 2㎛ - 150㎛ |
| 液体（仅测折射率） | 折射率测量范围 | 1.0 - 2.4 |
| 折射率精度 | ±0.0005 |
| 热光系数 | 温度测试范围 | 室温－150℃ |
| 波导损耗测量 | 测量限度 | below 0.05dB/cm |
可测量的薄膜和衬底材料类型：
硅、砷化镓、玻璃、石英、GGG、蓝宝石、锂酸铌等任何光滑的衬底材料均可测量。
| 薄膜类型 | 衬底类型 |
| Silicon Nitride | Silicon |
| Silicon Dioxide | Silicon Oxynitride | GaAs |
| Low-k films | Polymers
| Quartz |
| Polyimides | ITO | Glass |
| Zinc Sulfide | Titanium Dioxide | Sapphire |
| Sapphire | Epi Garnet | GGG |
| Photoresists | Holographic Gels | Lithium Niobate |
一些材料的厚度测量范围：
| 薄膜类型和折射率 | 厚度和折射率同时测量 | 仅测量厚度 |
| 硅基上的二氧化硅（n=1.46） | 0.48-15mm
| 0.20-0.48mm |
| 硅基上的光刻胶（n=1.63） | 0.42-15mm | 0.18-0.42mm |
| 二氧化硅上的光刻胶（n=1.63） | 0.70-15mm | 0.30-0.70mm |
| 硅基上的聚酰亚胺（n=1.72） | 0.38-15mm | 0.15-0.38mm |
二氧化硅上的聚酰亚胺（n=1.72）
| 0.50-15mm | 0.16-0.50mm |
| 硅基上的氮氧化硅（n=1.80） | 0.35-15mm
| 0.14-0.35mm |
| 二氧化硅上的氮氧化硅（n=1.80） | 0.45-15mm | 0.13-0.45mm |
硅基上的氮化硅（n=2.0）
| 0.32-15mm | 0.12-0.32mm |
| 二氧化硅上的氮化硅（n=2.0） | 0.30-15mm
| 0.15-0.30mm |
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